09 Ιουλίου 2010

ΣΤΑΤΙΣΤΙΚΑ ΜΕ ΤΟΥΣ ΒΑΘΜΟΥΣ ΠΡΟΣΒΑΣΗΣ

Σύμφωνα με τα στατιστικά στοιχεία με αντίστοιχα υποβοηθητικά γραφήματα για την κλιμάκωση του Γενικού Βαθμού Πρόσβασης (ΓΒΠ) των υποψηφίων συνολικά και ανά κατεύθυνση στα μαθήματα της τελευταίας τάξης των Γενικών Λυκείων,

που ανακοινώθηκαν σήμερα απ τον υφ. Παιδείας Γιάννη Πανάρετο προκύπτει ότι σε σχέση με το 2009, φέτος στα συνολικά στοιχεία:




1.Κλιμάκωση βαθμολογιών γραπτής εξέτασης 2010 (σύγκριση με 2007, 2008,2009)

2.Αριθμός προσέλευσης μαθητών 2010

3.Αναβαθμολογήσεις κατά μάθημα το έτος 2010 (σύγκριση με 2005, 2006, 2007, 2008 ,2009)

4.Βαθμολογίες γραπτής εξέτασης κατά μάθημα με βάση το 10

5.Κλιμάκωση του Γενικού Βαθμού Πρόσβασης (ΓΒΠ) των υποψηφίων συνολικά και ανά κατεύθυνση

ΣΥΜΠΕΡΑΣΜΑΤΑ
* Παρατηρείται σχετική μείωση (-0,85%) των «αριστούχων» υποψηφίων, δηλαδή των υποψηφίων με ΓΒΠ από 19 έως 20.

* Οι βαθμοί της κλίμακας από 18 έως 19 παραμένουν σχεδόν στα ίδια επίπεδα (με ποσοστιαία διαφορά μόλις -0,03%).

* Σχετική αύξηση εμφανίζουν τα ποσοστά των βαθμολογιών από 16 έως 18 (0,55%).

* Το ποσοστό των υποψηφίων με ΓΒΠ από 11 έως 16 μειώνεται κατά 1,14%.

* Στα ίδια επίπεδα παραμένουν τα ποσοστά των υποψηφίων με ΓΒΠ από 5 έως 11 (με ποσοστιαία διαφορά 0,17%).

* Τέλος, αύξηση κατά 1,58% παρουσιάζει το ποσοστό των υποψηφίων με ΓΒΠ από 0 έως 5.

Ειδικότερα ανά κατεύθυνση παρατηρούμε ότι:

* Ως προς τους «άριστους» υποψηφίους η μεγαλύτερη ποσοστιαία διαφορά παρουσιάζεται στην Θετική Κατεύθυνση (μείωση κατά 2,36%), ενώ η μικρότερη καταγράφεται στην Θεωρητική Κατεύθυνση (μείωση κατά 0,56%). Στην Τεχνολογική Κατεύθυνση στον Κύκλο Τεχνολογίας και Παραγωγής παραμένουν στα περσινά επίπεδα (με διαφορά μόλις 0,01%).

* Η Θεωρητική Κατεύθυνση παρουσιάζει το μικρότερο ποσοστό (1,52%) αριστούχων υποψηφίων (με ΓΒΠ από 19 έως 20) σε σχέση με όλες τις άλλες κατευθύνσεις. Το ποσοστό αυτό είναι μικρότερο κατά 0,56% από το αντίστοιχο του 2009. Η μεγαλύτερη αύξηση (κατά 0,50%) αυτής της κατεύθυνσης εμφανίζεται στο ποσοστό όσων συμπλήρωσαν ΓΒΠ από 10 έως 11. Μικρή διαφορά (αύξηση κατά 0,11%) σε σχέση με πέρυσι σημειώθηκε για τους υποψηφίους με ΓΒΠ μικρότερο του 5 (η μικρότερη ποσοστιαία διαφορά ανάμεσα στις 4 κατευθύνσεις). Στα άλλα διαστήματα ΓΒΠ δεν σημειώνονται ιδιαίτερες μεταβολές.

* Στην Θετική Κατεύθυνση, εμφανίζεται το δεύτερο μεγαλύτερο ποσοστό «αριστούχων» (10,81%), μετά τον Κύκλο Τεχνολογίας και Παραγωγής της Τεχνολογικής Κατεύθυνσης (όπου το αντίστοιχο ποσοστό είναι 11,03%), παρότι η κατηγορία αυτή σημειώνει το μεγαλύτερο ποσοστό μείωσης σε σχέση με πέρυσι, από όλες τις κατευθύνσεις (κατά 2,36%). Παράλληλα, σημειώνεται αύξηση κατά 3,38% των υποψηφίων της κατεύθυνσης που έλαβαν ΓΒΠ από 16 έως 19. Σημαντική μείωση της τάξης του 1,9% παρατηρείται για ΓΒΠ των υποψηφίων της συγκεκριμένης κατεύθυνσης από 10 έως 16. Στα ίδια επίπεδα παραμένει το ποσοστό των υποψηφίων που έχουν ΓΒΠ κάτω του 5 (το οποίο εμφανίζεται αυξημένο μόλις κατά 0,15% σε σχέση με το 2009).

* Ο Κύκλος Τεχνολογίας και Παραγωγής της Τεχνολογικής Κατεύθυνσης όπως προαναφέραμε σημειώνει το μεγαλύτερο ποσοστό αριστούχων (11,03%) από όλες τις κατευθύνσεις. Ωστόσο, δεν παρουσιάζονται σημαντικές διαφοροποιήσεις σε σχέση με πέρυσι. Άλλωστε δεν μπορούν να εξαχθούν ασφαλή συμπεράσματα λόγω του μικρού αριθμού υποψηφίων οι οποίοι συμμετείχαν σε αυτή την κατεύθυνση (671 υποψήφιοι, ή 0,75% επί του συνόλου των υποψηφίων).

* Στον Κύκλο Πληροφορικής και Υπηρεσιών της Τεχνολογικής Κατεύθυνσης, παρατηρείται μείωση των «αριστούχων» υποψηφίων σε σχέση με πέρυσι, κατά 0,74%. Σχετική μείωση της τάξεως του 0,32% παρατηρείται επίσης στους υποψηφίους με ΓΒΠ από 18 έως 19, ενώ σχετική αύξηση (0,26%) σημειώνεται στο ποσοστό των υποψηφίων που έχουν ΓΒΠ από 15 μέχρι 18. Μείωση κατά 1,42% εμφανίζουν επίσης οι υποψήφιοι της κατεύθυνσης με ΓΒΠ από 11 έως 15. Τέλος, στον Κύκλο Πληροφορικής και Υπηρεσιών της Τεχνολογικής Κατεύθυνσης καταγράφονται οι μεγαλύτερες αυξήσεις στους υποψηφίους των οποίων ο ΓΒΠ κινήθηκε κάτω από το 5 (ποσοστό 12,86%, μεγαλύτερο κατά 3,5% από το αντίστοιχο του 2009).

ΑΝΑΔΗΜΟΣΙΕΥΣΗ ΑΠΟ www.esos.gr

Δεν υπάρχουν σχόλια:

Δημοσίευση σχολίου